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        物理化學研究用溫度機組升降溫機組

        簡要描述:物理化學研究用溫度機組升降溫機組對溫度控制的需求極為多樣,從超低溫催化反應到高溫高壓合成,需要兼具寬溫域、高精度、快速響應和多環(huán)境兼容性的升降溫機組

        • 產品型號:
        • 廠商性質:生產廠家
        • 更新時間:2025-03-26
        • 訪  問  量:131

        詳細介紹


        物理化學研究用溫度機組升降溫機組選型,價格,方案等與江蘇康士捷機械設備有限公司溝通,多案例供參考。


        康士捷生產的工業(yè)控溫設備有高溫型(5℃~35℃)、中溫型(-5℃~-40℃)、低溫型(-40℃~-80℃)、超低溫型(-150℃~-80℃)、冷熱兩用型(-150℃~+300℃)等系列產品供貴司選用。制冷量大小都有,有防爆型,防腐型,撬裝式,變頻型等。接受非標定做。溫度穩(wěn)定性±0.1℃等可選。


        以下列出部分參數,貴司參數溝通選型后確認。

        物理化學研究用溫度機組升降溫機組

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        物理化學研究用溫度機組升降溫機組



        物理化學研究對溫度控制的需求極為多樣,從超低溫催化反應到高溫高壓合成,需要兼具寬溫域、高精度、快速響應和多環(huán)境兼容性的升降溫機組。以下是針對物理化學研究的專業(yè)化溫度控制設備技術方案:

         1. 核心需求分類

        研究類型

        典型溫度范圍

        關鍵要求

        低溫催化反應

        -80℃~+300℃

        精確控溫(±0.1℃)、惰性氣氛保護

        電化學原位測試

        -40℃~+200℃

        防腐蝕設計、三電極體系集成

         

        2. 系統(tǒng)架構設計

        (1) 模塊化溫控單元

        低溫模塊:

        復疊式壓縮機制冷(-80℃

        可選磁制冷(無振動,適合敏感測量)

        高溫模塊:

        電阻爐(300℃+ 水冷夾套(防過熱)

        (2) 傳熱介質系統(tǒng)

        低溫區(qū)間:

        硅油(-80℃~+200℃)或液態(tài)金屬(Ga-In合金,導熱系數>30W/mK

        高溫區(qū)間:

        熔鹽(KNO?-NaNO?,最高300℃)或石墨熱場(惰性氣氛)

        (3) 環(huán)境控制系統(tǒng)

        真空/氣氛腔體(10?? mbar~10MPa

        多路氣體通道(H?/Ar/O?等,質量流量計控制)


        物理化學研究用溫度機組升降溫機組選型,價格,方案等與江蘇康士捷機械設備有限公司溝通,多案例供參考。

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